項目名
ID 110939
タイトル別表記
対向ターゲット式DCスパッタリング法によるIn-Ga-Zn-OおよびIn-Sn-Zn-O系透明導電性酸化物薄膜の作製
著者
Wang, Xinzhi
キーワード
Wide bandgap semiconductors
thin films
DC sputtering
IGZO
ITZO
資料タイプ
Thesis or Dissertation
発行日
2017-09-28
備考
内容要旨・審査要旨・論文本文の公開
文科省報告番号
甲第3110号
学位記番号
甲先第284号
フルテキストファイル
言語
eng
著者版フラグ
ETD
学位授与年月日
2017-09-28
学位名
Doctor of Engineering
学位授与機関
Tokushima University