| 項目名 | 値 |
|---|---|
| ID | 110939 |
| タイトル別表記 | 対向ターゲット式DCスパッタリング法によるIn-Ga-Zn-OおよびIn-Sn-Zn-O系透明導電性酸化物薄膜の作製
|
| 著者 |
Wang, Xinzhi
|
| キーワード | Wide bandgap semiconductors
thin films
DC sputtering
IGZO
ITZO
|
| 資料タイプ |
Thesis or Dissertation
|
| 発行日 | 2017-09-28
|
| 備考 | 内容要旨・審査要旨・論文本文の公開
|
| 文科省報告番号 | 甲第3110号
|
| 学位記番号 | 甲先第284号
|
| フルテキストファイル | |
| 言語 |
eng
|
| 著者版フラグ |
ETD
|
| 学位授与年月日 | 2017-09-28
|
| 学位名 |
Doctor of Engineering
|
| 学位授与機関 |
Tokushima University
|
