| ID | 110939 |
| タイトル別表記 | 対向ターゲット式DCスパッタリング法によるIn-Ga-Zn-OおよびIn-Sn-Zn-O系透明導電性酸化物薄膜の作製
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| 著者 |
Wang, Xinzhi
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| キーワード | Wide bandgap semiconductors
thin films
DC sputtering
IGZO
ITZO
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| 資料タイプ |
Thesis or Dissertation
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| 発行日 | 2017-09-28
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| 備考 | 内容要旨・審査要旨・論文本文の公開
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| 文科省報告番号 | 甲第3110号
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| 学位記番号 | 甲先第284号
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| フルテキストファイル | |
| 言語 |
eng
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| 著者版フラグ |
ETD
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| 学位授与年月日 | 2017-09-28
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| 学位名 |
Doctor of Engineering
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| 学位授与機関 |
Tokushima University
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