項目名
ID 115310
タイトル別表記
4H炭化ケイ素MOSFETゲート酸化膜の界面準位及び信頼性に関する研究
著者
許, 恒宇 徳島大学大学院先端技術科学教育部(システム創生工学専攻)
キーワード
Silicon carbide
MOSFET
Interface State
Reliability
Thermal Gate Oxide
資料タイプ
学位論文
発行日
2020-09-23
備考
内容要旨・審査要旨・論文本文の公開
文科省報告番号
甲第3448号
学位記番号
甲先第378号
フルテキストファイル
言語
eng
著者版フラグ
博士論文全文を含む
学位授与年月日
2020-09-23
学位名
博士(工学)
学位授与機関
徳島大学